PBAST-6第六屆太平洋盆地吸附科技研討會展出訊息
2011年中國化學年會暨圖儀藥展即將於清華大學登場
磐拓國際股份有限公司－台南分公司正式啟動。
2011台灣奈米科技展即將於10/5 ~ 10/7於台北世貿一館登場
2011年9月獨家代理美國Quantachrome公司系列產品
IUMRS-ICA 2011暨100年中國材料科學學會年會即將於9/20 ~ 9/22登場
HORIBA 雷射粒徑分析儀用標準品 型號：4010A 規格：1μm 特價限量供應中
本公司將於2011年6月23日舉辦 HORIBA LA/LB系列光散射粒徑分析儀訓練課程
第十四屆奈米工程暨微系統技術展覽會將於2010/9/2~9/3於高雄中山大學舉辦
第十一屆台北國際儀器展即將於11/11~14登場!
磐拓公司-粉體材料分析技術專業 

從雷射光散射法到最新微差式離心沉降法及連續式動態影像分析技術，本公司可依各種粒徑分析需求提供最快速 、最高精確度與最高解析度的解決方案。
 
雷射光繞射/散射法粒徑分析儀(LALLS)
特點：
‧ 測量速度快，一分鐘完成測量。
‧ 動態粒徑範圍最廣，由nm至數mm大小分佈一次測量完成。
‧ 應用範圍最廣，可使用各種乾/濕式/微量樣品分析裝置。
   
Are Your Particle Size Results Real？
除了雷射粒徑分析儀之外，您還有更可靠、更準確的方法可以選擇
 

   

Differential sedimentation 微差式離心沉降分析
  特點：
‧ 精確度及解析度最高的奈米至微米粒徑分佈測量技術。
‧ 測量範圍3nm~75μm，解析度2%。
   
‧ 適合下列行業之產品研發/品管：
  各種微奈米粉體漿料、乳液、化粧品、食品、藥物、油墨、塗料、半導體CMP、各種
  光電鍍液、陶瓷、樹脂填料、蛋白質、生醫材料。
     
Dynamic Image analysis 連續式動態影像分析  
  Particle Sizing as you seeing! No Theory, No Guessing.
  特點：
‧ 不需任何粒徑測量原理，不需設定任何參數，最直接完整呈現由單一粒子至數千萬個樣品顆粒的各種型態及粒徑大小分佈及計數分析。
‧ 可測量範圍0.2 ~ 3000μm，使用濕/乾式全自動分散裝置測量或30μm ~ 30mm Free flowing samples。
‧. 可針對不同種類群組及形狀混合樣品進行Sorting功能，分別分析計算各種粒徑表示及形狀參數，為研發及品管的最佳利器。
‧ 符合ISO-13322-2及ISO-9276-6標準方法。
   
導電及金屬材料

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奈米銀粉： 以物理法製造，純度高達99.9%之奈米銀。
‧ 銀包銅粉：包覆率完整，抗氧化性能優異。
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導電銅粉：粒徑小、導電性佳、高純度、不易氧化。
‧ 另有各種尖端粉體材料可供選擇，歡迎來電洽詢。
   
 

TiTANEX 磐拓國際股份有限公司/CeraMet 鑫陶應用材料有限公司
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